ASML Q2 业绩全面超预期,再度上调全年指引,2027 年低 NA EUV 产能增加 30%
AI 芯片需求持续强劲,ASML 季报表现亮眼
半导体光刻设备巨头 ASML 最新发布的第二季度财报显示,多项核心指标超越市场预期,公司同步上调全年业绩展望。
核心数据一览
| 指标 | 实际值 | 市场预期 | 超出幅度 |
|---|---|---|---|
| 第二季度净销售额 | 93.3 亿欧元 | 88.5 亿欧元 | +5.4% |
| 净利润 | 29.2 亿欧元 | 26.4 亿欧元 | +10.6% |
| 毛利率 | 54% | 52% | +2 个百分点 |
| 服务及现场运营销售额 | 27.6 亿欧元 | 24.9 亿欧元 | - |
全年指引大幅上调
基于强劲的业绩势头,ASML 将 2026 年全年净销售额预期区间从此前的 360 亿至 400 亿欧元大幅上调至 430 亿至 450 亿欧元。
毛利率指引亦从 51% 至 53% 提升至 54% 至 56%。
公司预计第三季度净销售额将达 110 亿至 120 亿欧元,中值远高于彭博分析师一致预期的 102.7 亿欧元,毛利率指引区间为 55% 至 57%。
产能扩张路线图
ASML 首席执行官 Christophe Fouquet 在财报声明中表示:
基于当前业务势头,我们正计划在 2026 年约 65 台低数值孔径 EUV 产能的基础上,2027 年增加 30% 的产能,并正在研究 2028 年再进一步增加 30%。
公司同时宣布,下一届资本市场日将于 2027 年 6 月 10 日举行,届时将就市场与技术动态更新长期展望。
英特尔率先采用 High NA EUV 推进量产
ASML 与英特尔联合声明确认:英特尔已在美国俄勒冈州工厂利用 ASML EXE High NA EUV 设备制造部分 Ultra 3(猎豹湖)笔记本处理器。
具体采用该设备处理芯片的特定制造层,以积累数据并优化设备性能。英特尔在 18A 制造工艺中同时使用标准 EUV 及 High NA EUV 设备。
关键背景数据:
- High NA EUV 设备单台价格约 4 亿美元,约为标准 EUV 机台的两倍
- 英特尔早在 2024 年即在希尔斯伯勒研发基地接收了全球首台 High NA 设备
- 台积电此前曾公开表示,最新一代 ASML 设备成本过高,无法用于大规模量产,将推迟转向该技术的时间节点
英特尔芯片制造部门执行副总裁兼总经理 Naga Chandrasekaran 在联合声明中表示:
这一里程碑体现了英特尔与 ASML 之间紧密的技术合作,展示了 High NA EUV 如何在先进半导体制造中实现规模化集成。
英特尔此次采用举措,在一定程度上有助于缓解市场对 High NA EUV 商业化前景的疑虑,对 ASML 推广该产品线具有积极的示范效应。
行业验证:台积电需求同样强劲
ASML 最大客户之一台积电(TSMC)本周早些时候公布的数据亦印证了这一需求趋势——台积电 6 月销售额同比大增 68%,受益于旗下芯片的强劲需求。据路透社报道,台积电还计划在中国台湾南部嘉义科学园区新增两座先进封装厂。
瑞银分析师在 7 月 10 日的研究报告中指出,半导体晶圆厂的产能建设,以及 AI 驱动的先进制程芯片需求,预计将推动 ASML 下半年表现持续走强。
市场反应
财报公布后,ASML 欧股上涨 7%。
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